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国产电子元器件产业迎来风口,机遇与挑战在哪里?

  发布时间:2025-07-05 12:50:43|作者:ADMIN

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国产(a)为扫描速率为0.2mVs-1时的Fe3Se4/FeSe@NCNF的CV曲线。图2Fe3Se4/FeSe@NCNF成分表征结果Fe3Se4/FeSe@NCNF由Fe3Se4和FeSe两项构成,元器业迎挑Fe3Se4@NCNF样品中仅有Fe3Se4。产机遇同时Fe3Se4/FeSe@NCNF样品中Fe3+:Fe2+的比例为0.75。

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国产(e)为Fe3Se4/FeSe@NCNF的HRTEM图像。【引言】为了更好的利用新型可再生能源,元器业迎挑对高效的储能器件的开发成为当下研究的热点。

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最后在氩氢混合气中以450℃进行硒化处理,产机遇最终得到Fe3Se4/FeSe@NCNF。

国产(a)为Fe3Se4/FeSe@NCNF(I)和Fe3Se4@NCNF(II)的XRD图谱。此外,元器业迎挑纯相的Fe3Se4@NCNF通过将碳化的气氛调整为氩氢混合气得到。

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